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  • 气体分析仪器介绍

    在半导体领域中,磁控溅射镀膜工艺对靶材所含的气体和夹杂异常敏感,因为气体和夹杂会导致等离子体异常放电和显微颗粒的喷射,破坏和降低溅射薄膜质量,导致薄膜缺陷增加,..

    更多 2020-03-06

  • HIAC 9703+ 液体颗粒计数器(LPC)

    HIAC 9703+ 液体颗粒计数器(LPC)是微粒计数领域质量控制和研究应用中的佼佼者。当液体中的微粒通过窄小的检测区时,由于被不溶性微粒..

    更多 2020-03-06

  • VG9000辉光放电质谱仪(GDMS)

    辉光放电质谱法作为一种固体样品直接分析技术 ,广泛应用于金属、半导体等材料的痕量和超痕量杂质分析。随着制样方法和离子源装置的改进 ,GDMS..

    更多 2015-02-05

  • 高纯金属纯度控制及提纯技术

    由于金属材料中的杂质会影响半导体芯片等下游产品的导电性能,因此,溅射靶材对金属材料的纯度提出了相当高的要求。公司通过自主研发和合作研发,已经具备生产高纯度的溅射..

    更多 2015-02-05

  • 岛津PDA-7000直读光谱仪

    鸟津PDA-7000直读光谱仪适用于钢铁、铝、镁、铜、锌、锡、钛等各种固体金属的基体金属、合金中的组成元素、杂质微量元素的定量。应用于这些金属的冶炼工业和机械加..

    更多 2015-02-05

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